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一种光学系统，包括：第一装置，用以减少入射到所述第一装置上的光强度的变化，即在垂直于所述光的一方向上的所述强度的分布的变化；和第二装置，用以减少所述入射到所述第二装置上的光强度的变化，即在垂直于所说光和所说方向的另一方向上的所述强度的分布的...
该专利属于株式会社半导体能源研究所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社半导体能源研究所授权不得商用。

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