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特别适用于表面处理气体的本激励装置具有一个气体激励室（２０），设有一个与一次气体供应源（３６）连通的气体进入通道（２８）和一个激励气体用的输出通道（３０）。它包括一个文丘里效应收敛口（３４），该口安排在一次气体供应源（３６）和所说进入通道（...
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