气体激励装置制造方法及图纸

特别适用于表面处理气体的本激励装置具有一个气体激励室（２０），设有一个与一次气体供应源（３６）连通的气体进入通道（２８）和一个激励气体用的输出通道（３０）。它包括一个文丘里效应收敛口（３４），该口安排在一次气体供应源（３６）和所说进入通道（２８）之间的气体的路径上。它还包括至少一个与位在所说收敛口（３４）下游的区域连通的二次气体供应源（３２）。所说二次供应源（３２）发放的气体被文丘里效应挟带到所说激励室（２０）内。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种气体激励装置以便用来生成激励的或不稳定的气体分子，该装置专门被设计用来激励那些用于表面处理或废气处理(净化)的气体。现有技术中已知的气体激励装置型式具有一个气体激励室，设有一个与一次气体供应源连通的气体进入通道和一个激励气体用的输出通道。这种激励装置用电能将化学能和热能传送给气体，操作是在接近室温的温度下进行的。在操作时，该装置需要消耗大量的气体，为的是确保将化学上活化的物质快速地运送到使用这些物质的区域(以表面处理为例，就是使在气体进入到装置内和激励物质到达要处理的表面两者之间的“飞行”时间尽可能地缩短)。这样的气体消耗严重地损害这种装置的经济利益。例如，显然难于将这种过程采用到大量生产的物件上，如在汽车工业或玻璃工业，在那里气体消耗的超额费用并不总是能忍受的。本专利技术的目的是要克服这种缺点并提供一种气体激励装置，该装置只需较低的气体消耗并可在气体激励室的上游吸入另外的气体混合物。因此本专利技术的主题为一种属于上述型式的气体激励装置，其特征在于，它包括一个文丘里效应收敛口，该口安排在一次供应源和进入通道之间的气体的路径上，它还包括至少一个与位在所说收敛口下本文档来自技高网...

【技术保护点】
气体激励装置，具有一个气体激励室（２０；５６），设有一个与一次气体供应源（３６；５８）连通的气体进入通道（２８；６４）和一个激励气体用的输出通道（３０；７０），其特征在于，它包括一个文丘里效应（Ｖｅｎ－ｔｕｒｉ－ｅｆｆｅｃｔ）收敛口（３４；６３），该口安排在一次供应源（３６；５８）和所说进入通道（２８；６４）之间的气体的路径上，它还包括至少一个与位在所说收敛口（３４；６３）下游的区域连通的二次气体供应源（３２；６８；６９），在一次供应源发放的气体的作用下，所说二次供应源（３２；６８；６９）发放的气体被文丘里效应挟带到所说激励室（２０；５６）内。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：蒂埃里辛津勒，斯蒂芬拉比亚，
申请(专利权)人：液体空气乔治洛德方法利用和研究有限公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]