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化合物半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:8564056
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本发明提供化合物半导体器件及其制造方法。所述化合物半导体器件包括:具有第一极性的电子传输层、形成在电子传输层上方并且具有第二极性的p型盖层以及形成在p型盖层上的并且具有第一极性的n型盖层。n型盖层包括具有不同厚度的部分。...
该专利属于富士通株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士通株式会社授权不得商用。
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