温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明的实施例提供一种半导体器件和半导体器件制造方法，可减小连接电极到配线构件的电阻变化且改善配线可靠性。形成电极通过其延伸的孔，并且在包括配线的配线层上执行过蚀刻工艺。然后，通过在该孔中嵌入铜，可形成由铜制作的电极。在电极通过作为连接区域...
该专利属于索尼公司所有，仅供学习研究参考，未经过索尼公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。