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一种多弧离子镀膜装置，其包括一反应室、设置于反应室的腔体顶壁的至少一靶材及设置于反应室的腔体底壁的一装载台，该装载台用以装载基材，该反应室内于装载台的上方还设置有一罩体，该靶材和罩体之间设置有第一电源控制装置以设置靶材和罩体之间的第一负偏压...该专利属于鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司授权不得商用。