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本发明公开了一种去除SixNy残留物的处理方法，具体步骤如下：（1）将氢氧化钠、H2O2水溶液加热升温；（2）将硅片放入上述溶液中浸泡；（3）水洗；（4）将水中浸泡的硅片慢慢提拉，然后烘干即可。本发明能够处理氢氟酸溶液不能完全去除SixNy...
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