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本公开实施例提供了一种光刻对准标记以及包含其的掩模板和半导体晶片。所述光刻对准标记包括:沿第一方向相互平行设置的多个第一对准栅条;和沿与所述第一方向垂直的第二方向相互平行设置的多个第二对准栅条,其中,所述多个第一对准栅条中的每一个由预定个数...该专利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。
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