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用于曝光的掩模版、曝光方法以及半导体晶片的生产方法技术
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下载用于曝光的掩模版、曝光方法以及半导体晶片的生产方法的技术资料
文档序号:8531870
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本申请提供一种包含由减小投影曝光设备的圆形有效曝光区中的多个芯片图案构成的掩模版图案的用于曝光的掩模版,其中,所述掩模版图案具有布置成内接在有效曝光区的圆周内或者不从有效曝光区的圆周突出的外形,与平面视图中的四边形形状的芯片图案的数目相比具...
该专利属于夏普株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过夏普株式会社授权不得商用。
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