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本发明涉及一种高局部平整度重掺硅晶圆抛光片的无蜡抛光工艺，其步骤是：1.清洁陶瓷盘，将陶瓷盘浸泡后，用纯水冲洗其表面，收集冲洗纯水进行液体颗粒度测试，满足要求即可使用；2.将吸附垫粘贴在陶瓷盘表面；3.刷洗吸附垫表面并用纯水浸湿；4.将重掺...
该专利属于天津中环领先材料技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津中环领先材料技术有限公司授权不得商用。

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