温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

描述了用于沉积来自靶的材料同时减轻过早烧穿问题的可旋转式磁控溅射装置。所述可旋转式磁控溅射装置包括缠绕在极片上的电线圈，用于调节磁控管磁性组装件的末端处的磁场。通过改变电流的方向，使溅射区域在其正常中心位置周围交替地移动，从而降低靶材料的末...
该专利属于纳沃萨恩公司所有，仅供学习研究参考，未经过纳沃萨恩公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。