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本发明提供一种用于化学机械平面化的阴极保护垫调理器(100)，包括：金属基板(112)的研磨构件(110)、支撑载体(120)，以及固定到所述支撑载体(120)的周边边缘(124)上的阳极(130)。阴极保护电路(140)被构造为如果与电解...
该专利属于3M创新有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过3M创新有限公司授权不得商用。

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