温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，通过在源漏金属层形成工艺之后，先形成透明导电层，后在透明导电层之上，制备钝化层及过孔，由于透明导电层具有耐刻蚀，不易损伤，从而在没有增加阵列基板形成工艺步骤的情况下，解决了源漏金属层中铜被损伤...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。