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本发明公开了腔室装置和具有它的基片处理设备。所述腔室装置包括：限定有工艺腔的腔室本体，腔室本体上设有监测口；在线监测机构；和沿远离监测口的第一方向彼此平行地设在工艺腔内的N层托盘，每层托盘用于承载沿该层托盘的周向间隔布置在该层托盘的表面上的...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。