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一种导体结构的制造方法。于底层上形成第一导体层与第一图案化光阻层。以第一图案化光阻层为罩幕，对第一导体层进行等向性移除制程以形成第一图案化导体层。等向性移除制程移除第一导体层的第一部分以及位于部分第一图案化光阻层下方的第二部分以暴露出底层的...该专利属于福建华映显示科技有限公司;中华映管股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建华映显示科技有限公司;中华映管股份有限公司授权不得商用。