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透明导电性薄膜的制造方法技术
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文档序号:8490508
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本发明提供可以缩短用于使具有铟系复合氧化物的非晶质层结晶化的加热时间的透明导电性薄膜的制造方法。本发明的透明导电性薄膜的制造方法具备如下工序:第1工序,在厚度为10~50μm的薄膜基材的第一表面上层叠由铟系复合氧化物形成的非晶质层;第2工序...
该专利属于日东电工株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日东电工株式会社授权不得商用。
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