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本发明提供一种曝光装置的控制方法、曝光方法及组件制造方法。提供曝光装置（EX），其具备投影光学系统（PL），该投影光学系统（PL）具有最靠近投影光学系统（PL）的像面的第1光学元件（LS1）。曝光装置（EX）具备：第1液浸机构（1），用以在...
该专利属于株式会社尼康所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社尼康授权不得商用。

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