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本发明公开了质谱系统的现场调节。在质谱仪或质谱仪系统(100，700，1100，1500，1900)中，诸如氢的调节气体被添加来调节或清洁质谱仪(104)的一个或多个部件或区域，诸如离子源(120)。调节气体可以在质谱仪(104)的上游添加...
该专利属于安捷伦科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安捷伦科技有限公司授权不得商用。

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