质谱系统的现场调节技术方案

本发明专利技术公开了质谱系统的现场调节。在质谱仪或质谱仪系统(100，700，1100，1500，1900)中，诸如氢的调节气体被添加来调节或清洁质谱仪(104)的一个或多个部件或区域，诸如离子源(120)。调节气体可以在质谱仪(104)的上游添加，诸如添加到柱入口(112)或色谱柱(246)中，或者可以直接添加到质谱仪(104)中。调节气体可以在质谱仪(104)不分析样品时以离线方式添加，或在样品期间以在线方式添加。当在线添加时，调节气体可以与诸如氦的载气混合。在另一实施方式中，调节气体还充当通过柱(246)的载气，另一气体诸如氦可以被添加到在载气流。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术大体涉及质谱分析，包括与气相色谱联接的质谱分析。更具体地，本专利技术涉及对质谱仪进行调节(condition)以提高或恢复其性能。
技术介绍
质谱仪(MS)通常包括离子源，用于由被引入的样品产生带电物种；质量分析器，用于根据其质荷比(m/z比，或简称为“质量”)分离带电物种；粒子检测器，用于对经分离的物种进行计数以提供信号，质谱可由该信号来产生。样品可以通过各种技术引入到离子源中。在一种示例中，气相色谱(GC)与MS对接，使得GC柱(column)的样品输出(包含经过色谱分离的样品组分)用作输入到离子源中的样品。上述系统通常被称为GC/MS系统。因为MS长时间持续运行，所以由于样品、它们的基质(例如，石油样品中的重烃、脂肪样品中的甘油三酯)以及溶剂、从GC柱渗出的固定相或其他顽固性物质(这些都可能随时间积累)，总是导致MS的性能发生改变或劣化。即使在MS的初始运行时，MS也可能不稳定或不能“持续”提供适当的或均一的性能。在通常把电子碰撞(EI)或化学电离(Cl)源用于MS的气相色谱的情况下，离子源可能被所引入的样品组分迅速地污染，这导致性能劣化，如从分析物信号或谱图特征中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于操作质谱仪系统(100，700，1100，1500，1900)的方法，所述方法包括：将样品和载气引入所述质谱仪系统(100，700，1100，1500，1900)的电离室(136)中；以及将调节气体流入所述质谱仪系统(100，700，1100，1500，1900)的质谱仪(104)中，其中，所述质谱仪(104)中的所述调节气体基本不改变所述样品的分析物的质谱特征，并且所述调节气体与所述载气不同。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：布鲁斯·D·昆比，哈瑞·F·普瑞思特，迈克尔·J·沙勒夫斯基，迈克尔·K·佛雷德，
申请(专利权)人：安捷伦科技有限公司，
类型：发明
国别省市：