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本发明涉及一种低轮廓电解铜箔，特别涉及生产低轮廓电解铜箔用到的添加剂，还涉及其生产工艺。一种生产低轮廓电解铜箔用添加剂，由以下组分混合而成：3-巯基-1-丙磺酸钠，0.2～0.4份；聚乙烯亚胺烷基盐或聚乙烯亚胺烷基化合物，0.8～1.2份；...
该专利属于联合铜箔（惠州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过联合铜箔（惠州）有限公司授权不得商用。

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