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本发明的目的在于提供一种蚀刻液组合物以及使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法。所述蚀刻液组合物以良好的精度对含有铜层以及铜氧化物层和/或铜合金层的金属层压膜进行蚀刻加工，形成优异的截面形状，并且实用性优异，稳定因而使用期限较长。本发明涉及一种蚀刻液...
该专利属于关东化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过关东化学株式会社授权不得商用。

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