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本发明公开了一种等离子体增强化学气相沉积电极板装置、沉积方法及沉积装置。本发明的等离子体增强化学气相沉积电极板装置包括用于与要进行等离子体增强化学气相沉积的基板相接触的等离子体增强化学气相沉积电极板，以及能在所述基板上产生与基板平行的电场的...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司授权不得商用。