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一种热蒸发镀膜设备的热蒸发源，包括用于沉积薄膜的衬底、用于装载蒸发材料的坩埚，及用于加热所述坩埚的加热组件；所述坩埚上设有多个与所述衬底相对的喷嘴，所述多个喷嘴中的每两个相邻喷嘴之间的距离不全相等。采用非均匀分布的喷嘴排列方式，改变了每个喷...
该专利属于深圳先进技术研究院;香港中文大学所有，仅供学习研究参考，未经过深圳先进技术研究院;香港中文大学授权不得商用。

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