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本发明涉及用于提高石英腐蚀表面光洁度的微掩模去除方法，利用激光加工的刻蚀掩模板作为掩模层，对石英表面的残余金属和光刻胶进行等离子体刻蚀，刻蚀过程由清洗、对版、残余光刻胶刻蚀、残余金属刻蚀四个步骤组成，对版过程类似于接触式光刻中的图形对准工序...该专利属于北京遥测技术研究所;航天长征火箭技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京遥测技术研究所;航天长征火箭技术有限公司授权不得商用。