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本发明涉及半导体清洗工艺技术领域，具体涉及一种防止液体飞溅的清洗装置及具有该装置的清洗系统。该防止液体飞溅的清洗装置，包括上壳和下壳，上壳可相对下壳上下运动，上壳包括上壳内壁和上壳外壁，上壳内壁和上壳外壁之间形成中空腔，上壳内壁上设有多个进...
该专利属于北京七星华创电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京七星华创电子股份有限公司授权不得商用。

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