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横向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管制造技术
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文档序号:8474724
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提出了一种具有凹陷的源电极接触的横向DMOS及形成横向DMOS的方法。根据本实用新型实施例的横向DMOS包括凹陷的源电极接触,其中该凹陷的源电极接触包括凹陷部分,所述凹陷部分纵向延伸穿过横向DMOS的源区并与其体区接触,并且所述凹陷部分与所...
该专利属于成都芯源系统有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过成都芯源系统有限公司授权不得商用。
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