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辐射抑制装置制造方法及图纸
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文档序号:8474149
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本实用新型涉及一种辐射抑制装置,包括:硬盘和由吸波材料制成的辐射吸收块,辐射吸收块在第一平面上的垂直投影位于第一指定位置上,辐射吸收块用于吸收硬盘的向外辐射,第一平面为硬盘的连接器所在平面,第一指定位置为第一平面上除连接器所在位置外的其他位...
该专利属于华为技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过华为技术有限公司授权不得商用。
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