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本实用新型提供一种易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备，至少包括清洗气体发生装置、及通过主通道依次顺序连通的反应室、隔离阀、压力调节阀及抽气泵，其中，所述清洗气体发生装置通过清洗气体供应通道连通至所述反应室的第一输入端，所述清洗气体供应通道...
该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

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