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线性批量化学气相沉积系统技术方案
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文档序号:8456529
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在此描述了一种线性批量CVD系统,该系统包括一个沉积室、一个或多个基底托架、多个气体喷射器以及一个加热系统。每个基底托架都置于该沉积室中并且具有至少一个被配置成接收一个基底的接收座。这些基底托架被配置成将多个基底以一个线性配置的方式保持。每...
该专利属于艾文达技术股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过艾文达技术股份有限公司授权不得商用。
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