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本发明公开了一种阵列基板制作方法，包括步骤：在基板上形成包括栅线、第一栅极、第二栅极、栅绝缘层、第一有源层及第二有源层的图形；形成包括数据线、第一源极、第一漏极、第二源极及第二漏极的图形，使第二栅极、栅绝缘层、第二有源层、第二源极及第二漏极...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司授权不得商用。