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半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:8454038
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本发明提供一种半导体器件及其制造方法。所述半导体器件包括:衬底,所述衬底具有第一区和布置在第一区两侧的第二区;第一组导线,所述第一组导线在衬底上从第一区延伸至第二区;第二组导线,所述第二组导线在衬底上与第一组导线交替,并且从第一区延伸至第二...
该专利属于海力士半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过海力士半导体有限公司授权不得商用。
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