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本发明说明了一种用于均匀加工控制的等离子处理装置的多重甚高频射频频率的混频处理方法，该方法包含以下步骤：1、可调节等离子体浓度分布的等离子处理装置启动，下电极接收若干路甚高频射频信号和低频射频信号；2、射频比率控制器根据在待处理工件表面的等...该专利属于中微半导体设备（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）有限公司授权不得商用。
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本发明说明了一种用于均匀加工控制的等离子处理装置的多重甚高频射频频率的混频处理方法，该方法包含以下步骤：1、可调节等离子体浓度分布的等离子处理装置启动，下电极接收若干路甚高频射频信号和低频射频信号；2、射频比率控制器根据在待处理工件表面的等...