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一种中频磁控溅射镀膜装置，其包括一反应室、位于反应室中央的一转架及设置于反应室腔壁与转架之间的至少一对靶材，每对靶材于反应室内均相应配置有一内衬板及至少一外挡板，该至少一外挡板为可移动的，当该至少一外挡板移动至靶材与转架之间时，所述一对靶材...该专利属于鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司授权不得商用。