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提供一种含钨层中蚀刻不同纵横比特征的方法。提供一种包含钨蚀刻成分和沉积成分的蚀刻气体。由所提供的蚀刻气体形成等离子。利用所提供的等离子蚀刻图案化有宽和窄特征的含钨层。...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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