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屏蔽栅极沟槽MOSFET封装制造技术
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文档序号:8388006
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一种屏蔽栅沟槽场效应晶体管可以形成在衬底上,具有一个外延层在衬底上,以及一个本体层在外延层上。形成在本体层和外延层中的沟槽,内衬电介质层。屏蔽电极形成在沟槽下部。通过电介质层使屏蔽电极绝缘。栅极电极形成在屏蔽电极上方的沟槽中,并通过额外的电...
该专利属于万国半导体股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过万国半导体股份有限公司授权不得商用。
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