温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及在衬底上制造半导体部件的方法和包括半导体部件的衬底。一种包括光刻构图步骤的在衬底上制造半导体部件的方法，在衬底上，提供第一层和作为第一层的掩模的第二层，提供作为第二层的掩模的第三层，对第二层依次进行至少两个光刻构图工艺，在一个构图...
该专利属于埃斯普罗光电股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过埃斯普罗光电股份公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。