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本发明公开一种干涉曝光装置，包括：一光源，用于提供曝光光束；一干涉头，用于将所述曝光光束形成至少两束干涉光束并会聚于基底表面形成一干涉曝光图形，所述干涉头沿垂向做一维运动；一运动承载单元，用于提供所述基底至少三自由度运动；一测量单元，用于获...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

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