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一种纳米掺杂结构及其制备方法技术
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文档序号:8384404
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本发明提供一种纳米掺杂结构及其制备:1)先将纳米材料放置于原子层沉积系统反应腔内;2)用原子层沉积方法沉积厚度为1-2个循环的掺杂物材料;3)沉积厚度为X个循环的纳米材料的基体材料;4)交替循环沉积Y个周期上述2)、3)中所述掺杂物和基体材...
该专利属于西安交通大学所有,仅供学习研究参考,未经过西安交通大学授权不得商用。
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