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本发明涉及一种超薄玻璃基板上导电膜的制备方法,采用磁控溅射法,设定初始磁控溅射功率和/或初始氩气流量进行导电膜的沉积,通过设置在所述超薄玻璃基板上的压力传感器检测所述导电膜的膜层应力,根据检测到的所述膜层应力实时调整磁控溅射功率和/或氩气流...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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本发明涉及一种超薄玻璃基板上导电膜的制备方法,采用磁控溅射法,设定初始磁控溅射功率和/或初始氩气流量进行导电膜的沉积,通过设置在所述超薄玻璃基板上的压力传感器检测所述导电膜的膜层应力,根据检测到的所述膜层应力实时调整磁控溅射功率和/或氩气流...