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本发明涉及一种太阳能电池硅片清洗剂及清洗工艺，属于太阳能电池生产技术领域，由以下组分组成：0.5%-3%的表面活性剂、2.1%-13%的无机盐、1%-5%的有机盐，余量为去离子水；清洗工艺包括（1）按重量百分比将表面活性剂、无机盐、有机盐和...
该专利属于绍兴拓邦电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过绍兴拓邦电子科技有限公司授权不得商用。

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