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本发明涉及制备化学机械抛光层的方法，提供了用于化学机械抛光垫的抛光层的制备方法，其中最小化了抛光层中密度缺陷的形成。...
该专利属于罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司授权不得商用。

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