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一种真空吸盘制造技术
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文档序号:8378069
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本实用新型涉及半导体制造领域,尤其涉及一种真空吸盘,包含一本体,本体的一工作面具有一凹室,本体体侧具有一抽气道连通凹室,真空吸盘还包括一吸附盘,该吸附盘至少具有一个与凹室相通的气孔,本体的工作面上设有夹紧装置。本实用新型具有结构简单、加工精...
该专利属于胡孔佑所有,仅供学习研究参考,未经过胡孔佑授权不得商用。
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