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用于磁控溅射镀膜的组合式陶瓷靶材制造技术
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文档序号:8374260
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本实用新型公开了一种用于磁控溅射镀膜的组合式陶瓷靶材,包括溅射区域和非溅射区域,所述非溅射区域所在的所述靶材上设置有压条,所述压条的表面为粗糙表面。镀膜过程中,靶材的非溅射区域会积累大量的粉末状物质,本实用新型所述靶材的非溅射区域设置表面粗...
该专利属于四川汉能光伏有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过四川汉能光伏有限公司授权不得商用。
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