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本发明提供一种纳米级图形化衬底的制造方法，该方法先利用多孔阳极氧化铝在掩膜层上形成排布均匀的金属纳米颗粒，使用激光对金属纳米颗粒进行升温，使金属纳米颗粒的温度达到掩膜层的熔点，从而熔化与金属纳米颗粒接触的掩膜层，达到图形化掩膜层的目的，进而...
该专利属于映瑞光电科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过映瑞光电科技（上海）有限公司授权不得商用。

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