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本发明公开了一种阵列基板制作方法，涉及显示技术领域，该方法包括以下步骤：S1：在基板上形成包括栅极、栅线及栅绝缘层的图形；S2：形成包括有源层及沟道区域的图形；S3：形成包括源漏电极及数据线的图形；S4：形成包括像素电极及钝化层的图形。本发...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司授权不得商用。