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本发明提供一种阵列基板制作方法及阵列基板，阵列基板制作方法包括：在所述基板上形成栅金属薄膜、绝缘薄膜以及半导体薄膜，通过第一次构图工艺形成包括栅线、栅极绝缘层和半导体层的图形；依次形成透明导电薄膜和金属薄膜，通过第二次构图工艺形成包括数据线...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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