温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开一种曝光装置、器件制造方法。一种曝光装置，通过投影光学系统和液体把图案像投影到基板上来对所述基板进行曝光，所述曝光装置包括：液浸机构，用液体充满所述投影光学系统和所述基板之间，在所述基板上的一部分上形成液浸区；以及基板台，保持并移...
该专利属于株式会社尼康所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社尼康授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。