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本发明属于液晶显示技术领域，具体涉及一种掩膜版及光刻材料的曝光检测方法。光刻材料的曝光检测方法包括：步骤S1：利用掩膜版对光刻材料膜层进行曝光，形成与所述掩膜版上的曝光检测区对应的曝光检测单元，所述曝光检测单元上形成与所述曝光检测区中的不完...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司授权不得商用。