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本发明属于对位方法技术领域，公开了一种基板掩膜对位方法，首先在一掩膜版上形成多组对位标记图案，并选取若干个大尺寸基板作为样本基板，通过该掩膜版分别在每块样本基板上形成多组对位标记图案，将样本基板分为多个子基板区域，然后对样本基板实施掩膜工艺...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司授权不得商用。