温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种{110}高能面暴露的二氧化钛光催化材料及其制备方法。所述光催化材料由暴露面为{101}、{001}和{110}面，且{110}所占比例高达20％。其制备方法包括以下步骤：(1)在水溶液体系中，加入钛源，并以双氧水及氢氟酸作为...
该专利属于华东理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过华东理工大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。